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检查方法或技术:以OM为基线，后颅窝间隔层厚5mm

检查方法或技术:以OM为基线，后颅窝间隔层厚5mm，其他区域10mm，平扫。放射学表现:右侧颞叶见小斑片低密度影，边界欠清，余脑实质内未见异常密度影。两侧侧脑室对称，三，四脑室形态，大小及位置正常，诸脑池，沟显示正常，后

提问时间：2020-02-28

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赵宇副主任医师

三甲齐齐哈尔中医院中医科

病情分析：右侧颞叶低密度灶可能是梗死灶，脑水肿，也有可能是小肿块。意见建议：治疗的方法主要是对症治疗，具体去医院检查后进行诊治

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